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氧化钴湿法分散研磨机氧化钴湿法分散研磨机需要加入液体介质中分散应用，氧化钴+液体介质+分散剂采用XMD2000系列研磨分散机进行研磨分散，解决团聚问题，更均匀的分散，并进一步细化粒径，一般分散后粒径为D90小于1微米，分散效果好，效率高。
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