www.699.net-首页

产品名称:二氧化硅溶胶研磨分散机

更新时间:2022-05-06

产品型号:XMD2000

产品报价:

产品特点:二氧化硅溶胶研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

XMD2000二氧化硅溶胶研磨分散机的详细资料:

品牌SID/希德产地进口
产品新旧全新结构类型立式
产品大小中型自动化程度全自动
分散机类型实验室分散机,调速分散机,高速分散机,剪切分散机,乳化分散机,升降分散机,防爆分散机速度类别有级变速(多速),单速,双速,无级变速
物料类型液-液,干粉,膏体,固-液,固体颗粒变速方式减速器变速,变频变速,变速带变速,电磁变速
速度范围400rpm以下,400-1200rpm,200rpm以上分散盘型式平盘锯齿式,三义桨式,碟式
升降形式液压,机械每次处理量1000
分散轮直径55mm

二氧化硅溶胶研磨分散机

硅溶胶为纳米级的二氧化硅颗粒在水中或溶剂中的分散液。由于硅溶胶中的SiO2含有大量的水及羟基,故硅溶胶也可以表述为2O。制备硅溶胶有不同的途径。 常用的方法有离子交换法、硅粉一步水解法、硅烷水解法等。 硅溶胶属胶体溶液,无臭、 。硅溶胶为纳米级的二氧化硅颗粒在水中或溶剂中的分散液。由于硅溶胶中的SiO2含有大量的水及羟基,故硅溶胶也可以表述为2O。

硅溶胶无机高分子涂料是近几年发展起来的。制备该涂料的关键技术是

硅溶胶

用特殊的方法除去水玻璃中水溶性的钠离子。一般可以用离子交换、酸中和、水分解、电渗析等方法来实现,以生成一种极细的二氧化硅超微粒子胶状水溶液,粒径为580nm(一般乳液颗粒为800-1000nm)其中Si2O含量20%-30%,Na2O含量0.3%¥,氧化硅和氧化钠的比例在40%以上。以这种硅溶液/胶为基料,配合颜料和各种助剂而制成硅溶胶无机高分子涂料。硅溶液在失去水分时,单体硅酸逐渐聚合成高聚硅胶,随水分的蒸发,胶体分子增大,最后形成-SIO-O-SIO-涂膜:IO-SI-OH+HO-SI-OH因NA2O在硅溶胶中的含量低,硅溶胶具有一定量成膜溶解的特性,其耐水性、耐热性能明显 有机涂料。涂膜致密且较硬,不产生静电,空气中各种尘埃难粘附。在建筑涂料中,它的抗污染能力是较强的。

细微的颗粒,对基层有较强的渗透力,能通过毛细管渗透到基层内部,并能与混凝土基层中的氢氧化钙反应生成硅酸钙,使涂料具有较强的粘结力。

但硅溶胶在成膜过程中体积收缩较大,涂膜易开裂。硅溶胶能与丙烯酸酯、醋酸乙烯等乳液任意相溶。两者的特性相互补充,可以配制出性能优良的有机、无机复合涂料。

一种高抗冻性能硅溶胶的制备方法,是以硅粉水解法制得的硅溶胶产品为原料制得,所述原料中二氧化硅质量分数为17 — 31%,氧化钠质量分数为0.25-0.45%,pH值为8.5-9.5,胶粒粒径为8-20纳米。

步骤如下:

(1)将 型阳离子交换树脂装柱,按下述方法处理:先用去离子水清洗离子交换树脂3-5次;再用4-5wt%的HCl溶液浸泡2-4小时,然后用去离子水淋洗至出水呈中性;改用4-5wt% NaOH溶液继续浸泡2_4小时,并用去离子水洗至出水呈中性; 重复上述方法处理2-3次,每次HCl溶液和NaOH溶液的体积用量均为树脂体积的2_3倍;最后,用4-5wt%的HCl溶液浸泡树脂2-4小时,放尽HCl溶液后,用去离子水淋洗至出水呈中性。

(2)将浓度为6-8wt%的氯化铵溶液注入处理好的离子交换树脂柱内,浸泡1-2小时后放尽氯化铵溶液,再用去离子水淋洗至出水pH4.5-5.5。

(3)将原料注入步骤(2)处理好的离子交换树脂柱内,使原料离子转型反应0.5-5h,得含有铵盐的硅溶胶;所述的含有铵盐的硅溶胶PH2-4 。

(4)将步骤(3)得到的含有铵盐的硅溶胶搅拌状态下加入氢氧化锂悬浮溶液,所述的氢氧化锂的加入量为含有铵盐的硅溶胶质量的0.04-0.1%,所述氢氧化锂悬浮溶液的浓度为3-5wt%,调整pH值在8.5-9.5之间,再搅拌10-20分钟,即得高抗冻性能硅溶胶。

XMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

二氧化硅溶胶研磨分散机

 如果你对XMD2000二氧化硅溶胶研磨分散机感兴趣,想了解更详细的产品信息,填写下表直接与厂家联系:

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
在线客服

www.699.net|www.699.net

XML 地图 | Sitemap 地图